光刻胶AZ4620的配方组成及原料合成方法 AZ4620是半导体生产,科研比较常见的i线光刻正胶,可以形成5-20um的胶厚,有优异的分辨率和加工稳定性,今天我们深入探讨AZ4620的配方组成及原料合成方法。 配方 resin 光刻胶 丙二醇甲醚 甲醚 2025-09-26 09:46 5